合光光掩模科技（安徽）有限公司

产品与服务

PRODUCTS AND SERVICES

Product

产品介绍

掩模版（Photomask）又称为光罩、光掩模、光刻掩模版等，是芯片制造中光刻工艺所使用的图形转移母版，是连接芯片设计和工艺加工的钮带，是集成电路产业链中最基础、最核心、最关键的模块，光掩模制造掌握着从电路设计到制造的全部信息，直接决定了集成电路的性能，是实现芯片安全保密至关重要的环节。

operational principle

半导体生产工艺通常采用投影式光刻方法，激光透过掩模板后，经过投影物镜成像到晶圆的光刻胶表面，通过掩模板对光线的遮挡或透过功能，实现掩模图案向晶圆线路图的图形转移。半导体掩模板的技术演进的过程，正是不断解决极限情况下光的干涉与衍射现象、克服物理极限的过程。投影式光刻原理如下图所示：